吳江鍍膜玻璃工藝流程

詳細介紹

鍍膜玻璃廠的工藝流程
玻(bo)璃鍍膜就是在(zai)玻(bo)璃表面涂渡一層(ceng)或(huo)多層(ceng)金(jin)屬(shu)膜或(huo)金(jin)屬(shu)化合物(wu)，以改(gai)變玻(bo)璃光學性能(neng)。鍍膜玻(bo)璃廠
玻(bo)璃鍍膜的方法分為四類：
化學沉積法、熱蒸發鍍(du)(du)、機械（包括(kuo)噴涂和浸漬(zi)兩種方(fang)法）以及(ji)目前(qian)比較先(xian)進的磁控賤射鍍(du)(du)膜(mo)。這些技(ji)術的原(yuan)理和設備(bei)都(dou)不一樣，也不能互換(huan)。鍍(du)(du)膜(mo)玻(bo)璃(li)(li)生產方(fang)法都(dou)是在(zai)玻(bo)璃(li)(li)表(biao)面(mian)涂以金(jin)、銀、銅(tong)、鋁、鎳、鐵錫等(deng)金(jin)屬，金(jin)屬氧化物(wu)或非金(jin)屬氧化物(wu)薄(bo)膜(mo)：或采用電浮(fu)法、等(deng)離子法，像玻(bo)璃(li)(li)表(biao)面(mian)層深入金(jin)屬離子以置換(huan)玻(bo)璃(li)(li)表(biao)面(mian)層原(yuan)有的離子而形成的陽光控制鍍(du)(du)膜(mo)。鍍(du)(du)膜(mo)前(qian)清(qing)洗鍍(du)(du)膜(mo)前(qian)清(qing)洗的主要污(wu)(wu)染物(wu)是油污(wu)(wu)、手印、灰塵等(deng)。由于(yu)鍍(du)(du)膜(mo)工序對鏡(jing)片潔凈度的要求極為嚴格，因(yin)此清(qing)洗劑的選擇是很重要的。
在考慮(lv)某種(zhong)清洗(xi)劑(ji)的(de)清洗(xi)能力的(de)同時，還要(yao)考慮(lv)到他的(de)腐蝕性等方(fang)面的(de)問(wen)題。分為有機溶劑(ji)清洗(xi)和半水基清洗(xi)。
有(you)機溶劑(ji)(ji)清洗(xi)采用的清洗(xi)流程如下：有(you)機溶劑(ji)(ji)清洗(xi)劑(ji)(ji)（超(chao)聲(sheng)波(bo)）-水基清洗(xi)劑(ji)(ji)（超(chao)聲(sheng)波(bo)）-市水漂洗(xi)-純水漂洗(xi)-IPA（異(yi)丙醇）脫水-IPA慢拉干(gan)燥(zao)。
半水基清洗(xi)(xi)采用(yong)的(de)(de)(de)清洗(xi)(xi)流程如(ru)下：半水基清洗(xi)(xi)劑（超(chao)聲(sheng)波）-市(shi)水漂洗(xi)(xi)-水基清洗(xi)(xi)劑-市(shi)水漂洗(xi)(xi)-純(chun)水漂洗(xi)(xi)-IPA脫水-IPA慢拉(la)干(gan)燥真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)蒸發(fa)鍍(du)(du)膜(mo)是(shi)將被鍍(du)(du)零件和膜(mo)層(ceng)材(cai)料，以一(yi)(yi)定(ding)(ding)的(de)(de)(de)相對(dui)位置，放(fang)在一(yi)(yi)個(ge)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)空(kong) 間，采用(yong)一(yi)(yi)定(ding)(ding)的(de)(de)(de)方法(fa)，使膜(mo)料氣化(hua)或(huo)(huo)升華，形(xing)成(cheng)具(ju)有一(yi)(yi)定(ding)(ding)動能的(de)(de)(de)分子(zi)(zi)(zi)（原子(zi)(zi)(zi)或(huo)(huo)離子(zi)(zi)(zi)），離開蒸發(fa)器飛向被鍍(du)(du)零件表(biao)面，在表(biao)面上淀積形(xing)成(cheng)薄膜(mo)。真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)蒸發(fa)包(bao)括三個(ge)主要系(xi)(xi)(xi)統(tong)(tong)：真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)系(xi)(xi)(xi)統(tong)(tong)、蒸發(fa)系(xi)(xi)(xi)統(tong)(tong)、膜(mo)厚監(jian)控(kong)系(xi)(xi)(xi)統(tong)(tong)。其中(zhong)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)系(xi)(xi)(xi)統(tong)(tong)由(you)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)室、機械(xie)泵、分子(zi)(zi)(zi)泵（油擴散泵）、管(guan)道、閥門、真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)測量裝置等(deng)部分組成(cheng)。蒸發(fa)系(xi)(xi)(xi)統(tong)(tong)采用(yong)電子(zi)(zi)(zi)槍(qiang)蒸發(fa)，其主要由(you)燈絲、高(gao)壓(ya)線圈(quan)、偏(pian)轉線圈(quan)、坩堝等(deng)組成(cheng)。膜(mo)厚監(jian)控(kong)系(xi)(xi)(xi)統(tong)(tong)采用(yong)光電極值法(fa)，其主要由(you)光源、比較(jiao)片、單(dan)色儀、光電倍增(zeng)管(guan)、膜(mo)厚控(kong)制(zhi)儀及穩(wen)流穩(wen)壓(ya)電源組成(cheng)。磁(ci)濺射(she)是(shi)先對(dui)玻璃進行(xing)清洗(xi)(xi)，在高(gao)真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)倉(cang)室的(de)(de)(de)靶材(cai)賤射(she)區經過靶材(cai)離子(zi)(zi)(zi)賤射(she)而(er)鍍(du)(du)膜(mo)的(de)(de)(de)。